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多地明确提出虚拟电厂规划方案 市场前景可期

                                                       2025-07-05 01:32:50      

  

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电荷稳定了TaON中的氧抗位点缺陷,前景以及Ta3N5中的氧杂质缺陷,这与这些材料倾向于进行氧化分解,重整形成氧化物如Ta2O5相一致。此外,可期在典型的光催化操作条件下,TaON中的ON位点缺陷具有较低的形成能。

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在这项工作中,多地电厂第一原理模拟用于预测原型(氧)氮化物光催化剂TaON和Ta3N5中氮和氧阴离子空位的竞争稳定性和迁移率。

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虚拟图6.BFCNG集成器件(a)BFCNG集成器件的三维示意图。规划(d)装配有LIB腰带的光学照片。

市场(d)瞬态电流响应特性曲线和相应的偏压变化曲线。前景(e)不同材料体系能量密度和功率密度对比图。